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PVD-Dünnschichtausrüstung (Physical Vapour Deposition).Anhui Chunyuan Coating Technology Co., Ltd. ist auf die Forschung und Entwicklung fortschrittlicher PVD-Dünnschichtanlagen (Physical Vapour Deposition) spezialisiert und bietet leistungsstarke...Mehr
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Vakuumabscheidungsanlage für PVD-VerbundwerkstoffeDiese industrielle PVD-Komposit-Vakuumabscheidungsplattform integriert mehrere Abscheidungstechniken in einer einzigen Kammerumgebung, um gleichmäßige, mehrschichtige Metall-, Legierungs- oder...Mehr
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PVD-Ausrüstung zur LichtbogenverdampfungDas industrielle PVD-System mit kathodischer Lichtbogenverdampfung nutzt elektrische Lichtbögen mit niedriger -Spannung und hohem-Strom, um feste Kathodentargets in einer Vakuumumgebung zu...Mehr
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Kathodische Lichtbogen-DünnschichtausrüstungSystem zur physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD), das lokale elektrische Lichtbögen mit niedriger -Spannung und hohem-Strom nutzt, um feste Kathodentargets in vollständig ionisiertes Plasma zu...Mehr
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Ausrüstung zur LichtbogenverdampfungIndustrielle Plattform für physikalische Gasphasenabscheidung (PVD), die für die Hochgeschwindigkeitssynthese von dichten, verschleißfesten und funktionellen Hartbeschichtungen entwickelt wurde....Mehr
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Multi-Arc-IonenabscheidungssystemThe Multi-Arc Ion Deposition System performs industrial-scale cathodic arc evaporation for hard, wear-resistant, and low-friction thin films. The process achieves >80 % Ionisierung des festen...Mehr
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Multi-Arc-PVD-DünnschichtausrüstungDas industrielle Multi-Arc PVD-System nutzt die physikalische Gasphasenabscheidung mit kathodischem Lichtbogen mit hoher-Ionisation, um dichte, stöchiometrische Hartbeschichtungen (wie TiN, TiAlN,...Mehr
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Ausrüstung zur ionenunterstützten VakuumverdampfungDas ionenunterstützte Vakuumverdampfungssystem integriert thermische Hochvakuum- oder Elektronenstrahlverdampfungsquellen mit einer Kaufman-{3}Typ- oder End{4}}Hall-Ionenquelle. Durch Beschuss des...Mehr
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Ionen-unterstütztes DünnschichtabscheidungssystemDas Ion-Assisted Thin Film Deposition System integriert Multi{1}}Taschenelektronen-strahl-/thermische Verdampfung mit einer hochleistungsfähigen End-Hall- oder Kaufman--Ionenquelle. Bei der...Mehr
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Ausrüstung zur ionenstrahlunterstützten VerdampfungDas IBAE-System kombiniert Elektronenstrahl- oder thermische Verdampfung mit einer integrierten Breitstrahl-Ionenquelle. Durch den gleichzeitigen Ionenbeschuss während des Filmwachstums wird...Mehr
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Elektronenstrahlverdampfungs-DünnschichtsystemDas Elektronenstrahlverdampfungssystem der EBE--Serie wurde für die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) von hochschmelzenden Metallen, Dielektrika und optischen Materialien entwickelt. Durch...Mehr
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Plasmaverstärkte DünnschichtausrüstungBei der plasmaunterstützten Dünnschichtausrüstung handelt es sich um eine reine Ionenbeschichtungstechnologie (reiner Ionenstrahl), eine Hochenergie-Ionenstrahl-Reinigungstechnologie...Mehr
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