Unser Unternehmen nimmt ein fortschrittliches Produktionssystem an, damit unsere Produkte reibungslos, effizient und sicher produziert werden können, was nicht nur die Verlustrate von Maschinen vollständig verringert, sondern auch den Abschluss des Produktionsproduktionsfortschritts vollständig garantiert. Verschiedene technische Indikatoren für unsere Führende Beschichtungsausrüstung, Polymer -Ätzgerät, Ätzwerkzeuge für Mikroelektronikhersteller haben das führende Niveau in der Branche erreicht und von Kunden im In- und Ausland gut aufgenommen. Unser Unternehmen besteht darauf, die Reform der Unternehmensreform zu vertiefen, um sich an die Entwicklungsform der Marktwirtschaft anzupassen, den Grundsatz von "Qualität ist Kapital, Ruf ist das Leben" und verbessert ständig die Qualität der Produkte und entwickelt neue NeueDünnfilm -Vakuumsystem . Unser Unternehmen ist ein unternehmungslustiges Unternehmen. Wir investieren weiterhin in Produktforschung und -entwicklung. Mit vollständigem Produktstil, hervorragender Qualität, pünktlicher Lieferung und aufrichtiger Service gewinnt unser Unternehmen Kunden und den Markt. Unsere Produkte haben viele Merkmale wie hohe Integration, Stabilität und Zuverlässigkeit, einfache Wartung. Unsere Produkte sind innovativ und angepasst, um die individuellen Kundenbedürfnisse zu erfüllen. Unser Team ist hoch motiviert und verpflichtet sich, die Ziele unseres Unternehmens zu erreichen. Wir haben ein spezielles Qualitätskontrollteam, um sicherzustellen, dass alle Produkte unseren hohen Standards entsprechen.
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Plasmaverstärkte DünnschichtausrüstungBei der plasmaunterstützten Dünnschichtausrüstung handelt es sich um eine reine Ionenbeschichtungstechnologie (reiner Ionenstrahl), eine Hochenergie-Ionenstrahl-Reinigungstechnologie...Mehr
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Dünnschichtsystem mit LichtbogenverdampfungDas industrielle Dünnschichtsystem mit kathodischer Lichtbogenverdampfung ist für die schnelle Abscheidung von dichten, stark haftenden Beschichtungen aus Metall-, Legierungs- und...Mehr
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PVD-Multi-Prozess-DünnschichtausrüstungDie PVD-Multi-Prozess-Dünnschichtausrüstung ist eine integrierte Vakuumabscheidungsplattform, die entwickelt wurde, um mehrere Dünnschichtherstellungstechniken – einschließlich...Mehr
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PVD-Komposit-DünnschichtsystemIndustrielles Vakuumbeschichtungssystem-, das Magnetronsputtern (RF/DC/HiPIMS) und kathodische Lichtbogenverdampfung integriert. Konzipiert für die kontinuierliche Abscheidung von Mehrschicht-,...Mehr
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Multi-Arc-IonenabscheidungsausrüstungDas Industrial Multi-Arc Ion Deposition System erzeugt dichte, hoch-adhäsive Dünnschichten durch kathodische Lichtbogenverdampfung mit hohem-Strom und niedriger-Spannung. Feste Targetmaterialien...Mehr
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Multi-Arc-Ionen-DünnschichtausrüstungDieses Multi-Arc-Ionenplattierungssystem nutzt die kathodische Lichtbogenverdampfung, um dichte Hartbeschichtungen mit hoher Adhäsion und funktionelle Dünnfilme abzuscheiden. Durch das Zünden...Mehr
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Ausrüstung zur ionenunterstützten VakuumverdampfungDas ionenunterstützte Vakuumverdampfungssystem integriert thermische Hochvakuum- oder Elektronenstrahlverdampfungsquellen mit einer Kaufman-{3}Typ- oder End{4}}Hall-Ionenquelle. Durch Beschuss des...Mehr
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Ausrüstung zur ionenunterstützten DünnschichtabscheidungDie IA-Serie Ion-Assisted Thin Film Deposition Equipment integriert thermische Elektronenstrahlverdampfung mit einer Kaufman- oder End{3}}Hall-Ionenquelle. Durch den Beschuss mit energiereichen...Mehr
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Ionen-Dünnschichtausrüstung mit unterstützter VerdampfungIndustrielles -Ionen{1}}unterstütztes Evaporationssystem (IAE), das die Mehrtaschen-Elektronenstrahlverdampfung mit einer energiereichen Ionenstrahlquelle (End-Hall- oder Kaufman-Konfiguration)...Mehr
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Hochvakuum-ElektronenstrahlverdampfungsausrüstungDas Hochvakuum-Elektronenstrahlverdampfungssystem der EBE-Serie scheidet hoch-dünne Filme für optische, Halbleiter- und metallurgische Anwendungen ab. Indem ein magnetisch fokussierter...Mehr
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Elektronenstrahl-VakuumverdampfungsausrüstungDieses Elektronenstrahl-Vakuumverdampfungssystem führt die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) von Metallen, Oxiden und Dielektrika mit hohem -Schmelzpunkt- durch. Indem ein fokussierter...Mehr
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Ausrüstung zur Elektronenstrahl-DünnschichtabscheidungDieses industrielle Elektronenstrahl-Abscheidungssystem nutzt magnetisch fokussierte Elektronenkanonen (3 kW bis 15 kW), um Energieflüsse mit hoher -Dichte in wassergekühlte Kupferherde zu leiten....Mehr
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